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專題

2019.4.28學術報告:Deep ultraviolet solid-state laser for hybrid ArF excimer laser

副標題:

時間:2019-04-25  來源:條紋相機工程中心文本大小:【 |  | 】  【打印

  報告題目:Deep ultraviolet solid-state laser for hybrid ArF excimer laser
  報告時間:2019年4月28日 上午10:00
  報告地點:5號樓3樓大會議室
  報告摘要:
  High power, high coherence 193-nm laser is beneficial to the interference lithography process, which could be another solution to the advanced lithography in the future. The ArF excimer amplifier seeded by a solid-state 193-nm laser is a powerful light source to achieve both high power and high coherence. In the presentation, a watt-level solid-state 193-nm laser seed for will be introduced. This 193-nm laser has been successfully applied to seed a hybrid ArF excimer laser system for the lithography as well as the laser machining. Meanwhile, a high power and high beam quality deep ultraviolet laser at 258 nm will be also included.
  報告人簡介:
  玄洪文,男,1982年10月出生。山东大学光信息科学与技术专业本科(2006), 北京理工大学光学工程硕士(2008),中國科學院物理研究所博士(2012)。2012年10月-2017年3月,日本东京大学物性研究所特任研究员。在东京大学工作期间,长期从事光纤放大、YAG固体放大及光学频率变换研究,特别是在深紫外258nm 及193 nm等波长,取得了创新性的成果。2017年6月起为德国汉堡大学Research Associate, 在德国电子加速器中心(DESY)参与片上加速(ACHIP)的国际合作项目,主要负责高平均功率飞秒掺铥光纤激光器的开发。